光刻技术国产替代市场前景怎样？有关股票上市公司有哪些？

今日券商研报优选内容概述如下所示：

光刻技术是半导体材料光刻技术的主要原料，这些产品水准直接关系芯片制造水准，光刻技术可以分为G/I 线胶、KrF 胶、ArF 胶和EUV 胶，伴随着处理芯片处理速度的提升，适用8 寸、12 寸半导体硅片的配KrF、ArF 是时下和今后短时间各光刻技术企业发力的销售市场。目前我国半导体光刻胶要求90%依靠从日本、美国品牌，中国生产商徐州博康、北京市科盛、苏州市瑞红、南大光电、上海新阳在半导体材料高档光刻技术研发与批量生产上实现突破，光刻技术产业化是大趋势，伴随着重要原料产业化进度加速，中国生产商有希望完成市场份额提高。

现阶段半导体产业链逆全球化趋势已经产生，半导体材料供应链安全尤为重要，光刻技术做为半导体产业关键原料，技术要求高，原材料自主可控尤其重要。与此同时，我国生产商也具备一定产业优势，关键在于国内芯片加工商逆周期提产新增加很多光刻技术要求，国产替代室内空间宽阔，顾客取代意向强。第二，中国光刻技术生产商具有文化整合优点，与客户沟通更密切、意见反馈沟通交流更快捷。应对现阶段窘境，国内晶圆厂理应强化和国产光刻胶生产商联络、立即给予检测意见反馈，加速产品验证与导进速率，给光刻技术产业化以健康的成长自然环境。

有关上市企业：华懋科技、彤程新材、晶瑞电材、南大光电、上海新阳。