光刻机是什么？A股光刻胶企业有哪些？

　　光刻机又叫掩模对准曝光机，光刻系统等，用光来制作一个图形工艺，将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时复制到硅片上的过程。光刻工艺有两个重要部分，一个是光刻机、一个是光刻胶，目前最先进的光刻机就是EUV光刻机。光刻机就是利用特殊光线将集成电路“映射”到硅片表面，而要想在硅片表面的避免留下“痕迹”，这就需要在硅片表面涂上一层特殊的物质，这个物质就是“光刻胶”。

　　工艺流程大致是这样的：在硅片表面覆盖一层具有高度光敏感性光刻胶，再用光线透过掩模照射在硅片表面，被光线照射到的光刻胶会发生反应。此后用特定溶剂洗去被照射/未被照射的光刻胶， 就实现了电路图从掩模到硅片的转移。

　　一、光刻机

　　光刻机分为前道光刻机、后道光刻机等。前道光刻机就是大家熟知的ASML的光刻机，用于芯片制造。后道光刻机主要用于芯片封装，上微目前在后道光刻机上已经达到了全球主流技术水准，而前道光刻机，也就是大家所熟悉的ASML光刻机，这才是难度最高的光刻机。

　　光刻机跟照相机差不多，它的底片，是涂满光敏胶的硅片。电路图案经光刻机，缩微投射到底片，蚀刻掉一部分胶，露出硅面做化学处理。制造芯片，要重复几十遍这个过程。位于光刻机中心的镜头，由20多块锅底大的镜片串联组成。镜片的高纯度透光材料+高质量抛光。光学元件的生产难度，主要是集中在：一曝光能力，另一个是镀膜能力，曝光镜头对于膜系设计要求很高，首先需要用仿真软件设计结构，实现特定的光学效果，设计出来后对于后续的生产加工要求更难，一方面是高端的镀膜材料;二是高精度镀膜设备，三是镀膜工艺，如何高良率完成镀膜工艺。光刻机需要体积小，但功率高而稳定的光源。ASML的顶尖光刻机，使用波长短的极紫外光，光学系统极复杂。光刻机里有两个同步运动的工件台，一个载底片，一个载胶片。两者需始终同步，误差在2纳米以下。两个工作台由静到动，加速度跟导弹发射差不多。SMEE最好的光刻机，包含13个分系统，3万个机械件，200多个传感器，每一个都要稳定。 　　

　　--------对应寻找标的：高精度镜头、光栅、紫外光源、高端镀膜材料、高端镀膜设备、传感器

　　ASML90%的零件靠采购，声称公开图纸别人也模仿不出来的原因呢？就是因为光刻机的技术并不完全体现在零件上，而是在于组装，校准、精度等这些上面。

　　-------寻找标的：精度校准设备

　　1、零件标的：

　　奥普光学：光电测控仪器设备、光学材料和光栅编码器等产品

　　苏大维格：专利一“一种含纳米光栅像素结构的超视角指向投影屏幕”将含有纳米光栅的指向投影屏幕与显示技术结合，专利二“一种图形化精细导电薄膜的制备方法”

　　耐威科技：生产MEMS客户含全球光刻机巨头

　　福晶科技：合资设立福建睿创光电科技有限公司，开展衍射光学及微光学等产品的开发

　　胜利精密：业务延伸到光刻机整体解决方案，总投入859亿。与成都光电合资设立公司共同研制光刻机关键零部件---光刻机照明微透镜阵列与衍射光学 DOE 等核心光学部件产品 　　

　　蓝英装备：子公司为ASML光刻机提供零件清洗设备

　　2、尚未上市：

　　皖仪科技：公司正在研制的紫外可见分光光度计采用双全息闪耀光栅实现超低杂散光

　　鲲游光电：目前市场上少数可以设计并生产全息光栅光波导的公司

　　奥普特：继续研究高精度镜头的装调技术

　　不确定标的：

　　太辰光：光纤光栅温度在线监测

　　必创科技：三向光纤光栅应变传感器

　　永新光学：不断提高光学设计和镜头设计水平、检测技术水平、镀膜技术水平、高精度小球面透镜加工水平、玻璃镜片数控加工

　　3、整机标的：

　　苏大维格：自制光刻机用于纳米光学技术和产品研发

　　4、其他新闻题材标的：

　　2018年中科院自主研制了“超分辨光刻装备研制”达到22nm--中科院光电所-核心人罗先刚研究员、师胡松

　　福建安芯半导体实现国产光刻机对海康威视的销售

　　智光电气：参股的粤芯半导体采购ASML光刻机已交付 　　

　　二、光刻胶

　　1、光刻胶企业

　　容大感光：光刻胶龙头

　　永太科技：CF光刻胶项目竣工

　　晶瑞股份：参股苏州瑞红是国内光刻胶的重要企业

　　南大光电：参股的北京科华开发的光刻胶获得中芯国际认证

　　广信材料：电子化学品（油墨、专用涂料）-用于电子信息产业；其他-合作研发光刻胶

　　2、光刻胶原料：核心原料为酚醛树脂（正极）、感光树脂（负极）、光引发剂、单体

　　怡达股份：开发成膜助剂替代光刻胶中的致癌物质

　　飞凯材料：主要产品是光刻胶的原料

　　扬帆新材：光引发剂应用于PCB电路板（光刻胶） 　　

　　强力新材：光刻胶光引发剂、光刻胶树脂，获得光刻胶企业认证

　　永悦科技：合成树脂

　　兴业股份：酚醛树脂（正极）

　　彤程新材：酚醛树脂（正极）

　　山东赫达：石墨化工设备、双丙酮丙烯酰胺（可用于负极感光树脂）、原乙酸三甲酯

　　东材科技：绝缘膜材料、光学膜材料、新型绝缘材料和制品、环保阻燃材料、精细化工材料等系列产品；树脂产品可用于光刻胶

　　三、光刻气体

　　华特气体--国内唯一一家光刻特种气体

　　

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