南大光电个股市场前景如何？2021将来发展趋向项目投资价值评估

　　组织见解：ArF光刻技术再获验证，重要半导体器件完成提升半导体材料光刻技术现阶段中国自有率极低，提供端基本上被日美公司垄断性，领域前五市场占有率达87%。在其中g线/i线光刻技术自有率约为20%，KrF光刻技术自有率不够5%，而ArF光刻技术彻底依靠進口，对在我国芯片制造产生“受制于人”风险性。

　　企业继上年12月根据50nm闪存芯片服务平台验证根据后，近日又再度得到55nm时序逻辑电路服务平台验证，变成中国根据商品认证的第一只国内ArF光刻技术，摆脱了中国优秀光刻技术止步不前的局势。企业现阶段顺利完成两根光刻技术生产流水线的基本建设，预估将来光刻技术年生产能力达25吨（干试5吨和浸入式20吨）。

　　日本光刻技术停工断供，国产替代要求刻不容缓提供端近日日本福岛7.3级地震造成光刻技术领头信越化学终止供应一部分芯片加工光刻技术，在生产线遭受危害和芯片加工提产等多方面要素下，信越化学已向中国内地好几家一线芯片加工限定供应光刻技术，且已通告更小规模纳税人芯片加工终止供应光刻技术。要求层面中国中芯、华虹宏力、广州市粤芯等好几家中国芯片加工也在积极主动提产，中国光刻技术需要量远高于国内生产量且差值年年提高，特别是在在ArF、高档KrF等半导体材料光刻技术层面，国产替代要求急切。

　　盈利预测

　　保持企业21-23年纯利润预测分析1.42、1.59、1.7五亿元，保持“加持”定级。

　　风险分析

　　企业产品研发与批量生产进展不如预估，中下游客户满意度不达预估。